Journal of Physics D Applied Physics

Institute of Physics

لم تُقيَّم بعد

عن المجلة

Journal of Physics D Applied Physics مجلة يصدرها Institute of Physics في المملكة المتحدة. مُدرجة في PUBMED بحسب المصادر المقروءة. الوقائع منقولة كما وردت في مصادرها بتاريخ التقاطها؛ مؤشرات PublishLens متاحة بعد تسجيل الدخول.

الوقائع الأساسية

الناشر
Institute of Physics
ISSN
0022-3727 · 1361-6463
البلد
المملكة المتحدة
الوصول
غير مفتوح الوصول / غير مُصرَّح
الموقع الرسمي
http://iopscience.org/jphysd

الإدراج في الفهارس

  • PUBMED · 2003-07-01
الفهرسة
PUBMED
رسوم النشر
—
مدة التحكيم المُعلَنة (DOAJ)
—
النشاط (OpenAlex)
نشطة — آخر أعمال 2026
حالة الإدراج في قائمة PublishLens
تظهر بعد تسجيل الدخول
تُحتسب للترقية في جامعتك؟
اختر جامعتك ورتبتك أدناه ↓

إشارات المنهجية (وقائع مؤرَّخة من مصادرها)

تفاصيل التقييم وفق المنهجية المنشورة تُعرض للمسجّلين مجاناً.

أنشئ حساباً مجانياً لعرض التقييم

ملف المجلة الوصفي

بيانات وصفية من مصادر علنية (DOAJ، OpenAlex، PubMed) بتاريخ الالتقاط المبيَّن — لا تتضمن أي تقييم أو حكم.

عدد الأعمال في OpenAlex

35992

آخر سنة نشر مسجلة

2026

تُعلنها OpenAlex في 1 من 3 مصادر (أعلام CC0، لا فهرسة مُتحقَّقة)DOAJSciELOOpenAlex Core

معامل h

274

معامل i10

20132

من بيانات OpenAlex المفتوحة (CC0).

السياسة التحريرية5
الحفظ الرقمي المرصود (سجل Keepers)— لقطة 2026-10-05
CLOCKSSPortico
السجل النرويجي (HK-dir)— 2026
المستوى 1 — قناة علمية معتمدة
مراجع مودعة علنياً في Crossref
98%
معرّفات ORCID في الإيداعات الحديثة
100%
مسجَّلة في فحص التشابه (Crossref Similarity Check)
✓
تُودِع بيانات الرخص في Crossref
✓
الهوية والاستمرارية3
عناوين بديلة
Applied physics (Bristol
نوع المصدر
journal
معرّف NLM (PubMed)
1256300
التصنيف الموضوعي(لا بيانات)

لا بيانات لدى المنصة لهذه المجموعة

لا بيانات لدى المنصة في: التصنيف الموضوعي.

المواضيع العلمية

  • Plasma Diagnostics and Applications
  • Plasma Diagnostics and Applications
  • Plasma Diagnostics and Applications
  • Vacuum and Plasma Arcs
  • Plasma Applications and Diagnostics
  • Plasma Applications and Diagnostics
  • Plasma Applications and Diagnostics
  • Magnetic properties of thin films
عرض كل المجالات (75)
  • Semiconductor materials and devices
  • Semiconductor materials and devices
  • Semiconductor materials and interfaces
  • Magnetic properties of thin films
  • Magnetic properties of thin films
  • Metal and Thin Film Mechanics
  • Metal and Thin Film Mechanics
  • ZnO doping and properties
  • ZnO doping and properties
  • Electrohydrodynamics and Fluid Dynamics
  • Electrohydrodynamics and Fluid Dynamics
  • Atomic and Molecular Physics
  • Metamaterials and Metasurfaces Applications
  • Semiconductor materials and devices
  • Laser-induced spectroscopy and plasma
  • Laser-induced spectroscopy and plasma
  • Magnetic Properties of Alloys
  • Pulsed Power Technology Applications
  • Magnetic Properties and Applications
  • Ferroelectric and Piezoelectric Materials
  • High voltage insulation and dielectric phenomena
  • Vacuum and Plasma Arcs
  • Vacuum and Plasma Arcs
  • Diamond and Carbon-based Materials Research
  • Diamond and Carbon-based Materials Research
  • High voltage insulation and dielectric phenomena
  • High voltage insulation and dielectric phenomena
  • GaN-based semiconductor devices and materials
  • Metamaterials and Metasurfaces Applications
  • Metamaterials and Metasurfaces Applications
  • Ferroelectric and Piezoelectric Materials
  • Ferroelectric and Piezoelectric Materials
  • Multiferroics and related materials
  • 2D Materials and Applications
  • ZnO doping and properties
  • Plasmonic and Surface Plasmon Research
  • Semiconductor Quantum Structures and Devices
  • Semiconductor Quantum Structures and Devices
  • Magnetic and transport properties of perovskites and related materials
  • Magnetic and transport properties of perovskites and related materials
  • Photonic and Optical Devices
  • Photonic and Optical Devices
  • Magnetic and transport properties of perovskites and related materials
  • Magnetic Properties and Applications
  • Magnetic Properties and Applications
  • Chalcogenide Semiconductor Thin Films
  • Chalcogenide Semiconductor Thin Films
  • Laser Design and Applications
  • Laser Design and Applications
  • Gas Sensing Nanomaterials and Sensors
  • Gas Sensing Nanomaterials and Sensors
  • Ion-surface interactions and analysis
  • GaN-based semiconductor devices and materials
  • Luminescence Properties of Advanced Materials
  • GaN-based semiconductor devices and materials
  • Electron and X-Ray Spectroscopy Techniques
  • Semiconductor materials and interfaces
  • Semiconductor materials and interfaces
  • Graphene research and applications
  • Graphene research and applications
  • Graphene research and applications
  • Dielectric materials and actuators
  • Semiconductor Quantum Structures and Devices
  • Ion-surface interactions and analysis
  • Ion-surface interactions and analysis
  • Multiferroics and related materials
  • Multiferroics and related materials

تأكيدات مجتمعية — ما رآه مستخدمون في MJL أو Scopus Sources؛ ليست تحققاً من المنصة ولا تدخل في أي درجة.

جارٍ تحميل التأكيدات المجتمعية…
كيف نُقيّم؟ناشر هذه المجلة؟ تظلّم على تقدير مشتق أو طلب تصحيح واقعة

سجل المجلة في مصادر أخرى:Web of Science MJLDOAJ

كل ما يُعرض هنا يُنتَج آلياً من مصادر مسمّاة (DOAJ، OpenAlex، Crossref، PubMed، السجل النرويجي) بتاريخ التقاطه، دون تحرير بشري. الوقائع تظهر كما سُجِّلت في مصدرها؛ والدرجات المشتقة (PCI، PTD، درجة PublishLens) تتبع منهجية منشورة. ليست حكماً على المجلة ولا اعتماداً رسمياً ولا استشارة.

أي بند خاطئ يُصحَّح آلياً بإعادة قراءة مصدره (خلال 24 ساعة للمصادر اليومية و7 أيام للأسبوعية) مع سجل تغييرات مؤرَّخ، وكل بند يرتبط بسجله في المصدر. الاعتراض على تقدير مشتق من PublishLens يمر عبر آلية التظلم (15 يوم عمل). آلية التظلم · دليل المؤشرات

بيانات السجل النرويجي: Kanalregisteret (HK-dir، النرويج) — رخصة CC BY 4.0 / NLOD — مُعالَجة: استخراج المستوى بالسنة · قائمة أعضاء OASPA — رخصة CC BY

آخر قراءة آلية للمصدر: