Thin Solid Films

Elsevier BV

موقع المجلة الرسميطريقة التحكيم: تحكيم علمي
حالة التقييم متاحة بعد تسجيل الدخول

عن المجلة

Thin Solid Films مجلة يصدرها Elsevier BV في هولندا. مُدرجة في PUBMED بحسب المصادر المقروءة. رسوم النشر المعلنة: 2,890 USD. الوقائع منقولة كما وردت في مصادرها بتاريخ التقاطها؛ مؤشرات PublishLens متاحة بعد تسجيل الدخول.

الوقائع الأساسية

الناشر
Elsevier BV
ISSN
1879-2731 · 0040-6090
البلد
هولندا
الوصول
غير مفتوح الوصول / غير مُصرَّح
رسوم النشر المعلنة
2,890 USD
نمط التحكيم المعلن
peer_review

الإدراج في الفهارس

  • PUBMED · 1998-08-31
الفهرسة
PUBMED
رسوم النشر
2,890 USD
مدة التحكيم المُعلَنة (DOAJ)
—
النشاط (OpenAlex)
نشطة — آخر أعمال 2026
حالة الإدراج في قائمة PublishLens
تظهر بعد تسجيل الدخول
تُحتسب للترقية في جامعتك؟
اختر جامعتك ورتبتك أدناه ↓

إشارات المنهجية (وقائع مؤرَّخة من مصادرها)

تفاصيل التقييم وفق المنهجية المنشورة تُعرض للمسجّلين مجاناً.

أنشئ حساباً مجانياً لعرض التقييم

ملف المجلة الوصفي

بيانات وصفية من مصادر علنية (DOAJ، OpenAlex، PubMed) بتاريخ الالتقاط المبيَّن — لا تتضمن أي تقييم أو حكم.

عدد الأعمال في OpenAlex

47350

آخر سنة نشر مسجلة

2026

تُعلنها OpenAlex في 1 من 3 مصادر (أعلام CC0، لا فهرسة مُتحقَّقة)DOAJSciELOOpenAlex Core

معامل h

253

معامل i10

26361

من بيانات OpenAlex المفتوحة (CC0).

السياسة التحريرية4
الحفظ الرقمي المرصود (سجل Keepers)— لقطة 2026-10-05
CLOCKSSPortico
السجل النرويجي (HK-dir)— 2026
المستوى 1 — قناة علمية معتمدة
مراجع مودعة علنياً في Crossref
96%
معرّفات ORCID في الإيداعات الحديثة
88%
تُودِع بيانات الرخص في Crossref
✓
الهوية والاستمرارية2
نوع المصدر
journal
معرّف NLM (PubMed)
101462246
التصنيف الموضوعي(لا بيانات)

لا بيانات لدى المنصة لهذه المجموعة

لا بيانات لدى المنصة في: التصنيف الموضوعي.

المواضيع العلمية

  • Semiconductor materials and devices
  • Semiconductor materials and devices
  • Metal and Thin Film Mechanics
  • Metal and Thin Film Mechanics
  • ZnO doping and properties
  • ZnO doping and properties
  • Thin-Film Transistor Technologies
  • Thin-Film Transistor Technologies
عرض كل المجالات (50)
  • Diamond and Carbon-based Materials Research
  • Diamond and Carbon-based Materials Research
  • Chalcogenide Semiconductor Thin Films
  • Chalcogenide Semiconductor Thin Films
  • Semiconductor materials and interfaces
  • Semiconductor materials and interfaces
  • Copper Interconnects and Reliability
  • Copper Interconnects and Reliability
  • Quantum Dots Synthesis And Properties
  • Quantum Dots Synthesis And Properties
  • Silicon Nanostructures and Photoluminescence
  • Silicon Nanostructures and Photoluminescence
  • Gas Sensing Nanomaterials and Sensors
  • Gas Sensing Nanomaterials and Sensors
  • Copper-based nanomaterials and applications
  • Copper-based nanomaterials and applications
  • Silicon and Solar Cell Technologies
  • Silicon and Solar Cell Technologies
  • Electronic and Structural Properties of Oxides
  • Electronic and Structural Properties of Oxides
  • Transition Metal Oxide Nanomaterials
  • Transition Metal Oxide Nanomaterials
  • Ion-surface interactions and analysis
  • Ion-surface interactions and analysis
  • Conducting polymers and applications
  • Conducting polymers and applications
  • Organic Electronics and Photovoltaics
  • Organic Electronics and Photovoltaics
  • Surface and Thin Film Phenomena
  • Surface and Thin Film Phenomena
  • Semiconductor Quantum Structures and Devices
  • Semiconductor Quantum Structures and Devices
  • Ga2O3 and related materials
  • Ga2O3 and related materials
  • GaN-based semiconductor devices and materials
  • GaN-based semiconductor devices and materials
  • Molecular Junctions and Nanostructures
  • Molecular Junctions and Nanostructures
  • Ferroelectric and Piezoelectric Materials
  • Ferroelectric and Piezoelectric Materials
  • Force Microscopy Techniques and Applications
  • Force Microscopy Techniques and Applications

تأكيدات مجتمعية — ما رآه مستخدمون في MJL أو Scopus Sources؛ ليست تحققاً من المنصة ولا تدخل في أي درجة.

جارٍ تحميل التأكيدات المجتمعية…
كيف نُقيّم؟ناشر هذه المجلة؟ تظلّم على تقدير مشتق أو طلب تصحيح واقعة

سجل المجلة في مصادر أخرى:Web of Science MJLDOAJ

كل ما يُعرض هنا يُنتَج آلياً من مصادر مسمّاة (DOAJ، OpenAlex، Crossref، PubMed، السجل النرويجي) بتاريخ التقاطه، دون تحرير بشري. الوقائع تظهر كما سُجِّلت في مصدرها؛ والدرجات المشتقة (PCI، PTD، درجة PublishLens) تتبع منهجية منشورة. ليست حكماً على المجلة ولا اعتماداً رسمياً ولا استشارة.

أي بند خاطئ يُصحَّح آلياً بإعادة قراءة مصدره (خلال 24 ساعة للمصادر اليومية و7 أيام للأسبوعية) مع سجل تغييرات مؤرَّخ، وكل بند يرتبط بسجله في المصدر. الاعتراض على تقدير مشتق من PublishLens يمر عبر آلية التظلم (15 يوم عمل). آلية التظلم · دليل المؤشرات

بيانات السجل النرويجي: Kanalregisteret (HK-dir، النرويج) — رخصة CC BY 4.0 / NLOD — مُعالَجة: استخراج المستوى بالسنة · قائمة أعضاء OASPA — رخصة CC BY

آخر قراءة آلية للمصدر: