حالة التقييم متاحة بعد تسجيل الدخول
عن المجلة
Microelectronic Engineering مجلة يصدرها Elsevier BV في هولندا. مُدرجة في PUBMED بحسب المصادر المقروءة. رسوم النشر المعلنة: 2,750 USD. الوقائع منقولة كما وردت في مصادرها بتاريخ التقاطها؛ مؤشرات PublishLens متاحة بعد تسجيل الدخول.
الوقائع الأساسية
- الناشر
- Elsevier BV
- ISSN
- 1873-5568 · 0167-9317
- البلد
- هولندا
- الوصول
- غير مفتوح الوصول / غير مُصرَّح
- رسوم النشر المعلنة
- 2,750 USD
- نمط التحكيم المعلن
- peer_review
الإدراج في الفهارس
- PUBMED · 2012-10-01
- الفهرسة
- PUBMED
- رسوم النشر
- 2,750 USD
- مدة التحكيم المُعلَنة (DOAJ)
- —
- النشاط (OpenAlex)
- نشطة — آخر أعمال 2026
- حالة الإدراج في قائمة PublishLens
- تظهر بعد تسجيل الدخول
- تُحتسب للترقية في جامعتك؟
- اختر جامعتك ورتبتك أدناه ↓
إشارات المنهجية (وقائع مؤرَّخة من مصادرها)
تفاصيل التقييم وفق المنهجية المنشورة تُعرض للمسجّلين مجاناً.
أنشئ حساباً مجانياً لعرض التقييمملف المجلة الوصفي
بيانات وصفية من مصادر علنية (DOAJ، OpenAlex، PubMed) بتاريخ الالتقاط المبيَّن — لا تتضمن أي تقييم أو حكم.
عدد الأعمال في OpenAlex
14093
آخر سنة نشر مسجلة
2026
تُعلنها OpenAlex في 1 من 3 مصادر (أعلام CC0، لا فهرسة مُتحقَّقة)DOAJSciELOOpenAlex Core
معامل h
121
معامل i10
5847
من بيانات OpenAlex المفتوحة (CC0).
السياسة التحريرية4
- الحفظ الرقمي المرصود (سجل Keepers)— لقطة 2026-09-21
- CLOCKSSPortico
- السجل النرويجي (HK-dir)— 2026
- المستوى 1 — قناة علمية معتمدة
- مراجع مودعة علنياً في Crossref
- 90%
- معرّفات ORCID في الإيداعات الحديثة
- 8%
- تُودِع بيانات الرخص في Crossref
- ✓
الهوية والاستمرارية1
- نوع المصدر
- journal
التصنيف الموضوعي(لا بيانات)
لا بيانات لدى المنصة لهذه المجموعة
لا بيانات لدى المنصة في: التصنيف الموضوعي.
المواضيع العلمية
- Semiconductor materials and devices
- Semiconductor materials and devices
- Advancements in Photolithography Techniques
- Advancements in Photolithography Techniques
- Integrated Circuits and Semiconductor Failure Analysis
- Integrated Circuits and Semiconductor Failure Analysis
- Advancements in Semiconductor Devices and Circuit Design
- Advancements in Semiconductor Devices and Circuit Design
عرض كل المجالات (50)
- Nanofabrication and Lithography Techniques
- Nanofabrication and Lithography Techniques
- Advanced Surface Polishing Techniques
- Advanced Surface Polishing Techniques
- Copper Interconnects and Reliability
- Copper Interconnects and Reliability
- Semiconductor materials and interfaces
- Semiconductor materials and interfaces
- Electron and X-Ray Spectroscopy Techniques
- Electron and X-Ray Spectroscopy Techniques
- Force Microscopy Techniques and Applications
- Force Microscopy Techniques and Applications
- Metal and Thin Film Mechanics
- Metal and Thin Film Mechanics
- Nanowire Synthesis and Applications
- Nanowire Synthesis and Applications
- Optical Coatings and Gratings
- Optical Coatings and Gratings
- 3D IC and TSV technologies
- 3D IC and TSV technologies
- Photonic and Optical Devices
- Photonic and Optical Devices
- Ferroelectric and Negative Capacitance Devices
- Ferroelectric and Negative Capacitance Devices
- Semiconductor Quantum Structures and Devices
- Silicon and Solar Cell Technologies
- Silicon and Solar Cell Technologies
- Semiconductor Quantum Structures and Devices
- Microfluidic and Capillary Electrophoresis Applications
- Advanced Memory and Neural Computing
- Microfluidic and Capillary Electrophoresis Applications
- Advanced Memory and Neural Computing
- Thin-Film Transistor Technologies
- Thin-Film Transistor Technologies
- Advanced MEMS and NEMS Technologies
- Advanced MEMS and NEMS Technologies
- Diverse Scientific and Economic Studies
- Diverse Scientific and Economic Studies
- Electronic Packaging and Soldering Technologies
- Electronic Packaging and Soldering Technologies
- Silicon Nanostructures and Photoluminescence
- Silicon Nanostructures and Photoluminescence
تأكيدات مجتمعية — ما رآه مستخدمون في MJL أو Scopus Sources؛ ليست تحققاً من المنصة ولا تدخل في أي درجة.
جارٍ تحميل التأكيدات المجتمعية…
سجل المجلة في مصادر أخرى:Web of Science MJLDOAJ