Surface Science

Elsevier BV

موقع المجلة الرسميطريقة التحكيم: تحكيم علمي
حالة التقييم متاحة بعد تسجيل الدخول

عن المجلة

Surface Science مجلة يصدرها Elsevier BV في هولندا. مُدرجة في PUBMED بحسب المصادر المقروءة. رسوم النشر المعلنة: 3,120 USD. الوقائع منقولة كما وردت في مصادرها بتاريخ التقاطها؛ مؤشرات PublishLens متاحة بعد تسجيل الدخول.

الوقائع الأساسية

الناشر
Elsevier BV
ISSN
1879-2758 · 0039-6028
البلد
هولندا
الوصول
غير مفتوح الوصول / غير مُصرَّح
رسوم النشر المعلنة
3,120 USD
نمط التحكيم المعلن
peer_review

الإدراج في الفهارس

  • PUBMED · 2008-04-01
الفهرسة
PUBMED
رسوم النشر
3,120 USD
مدة التحكيم المُعلَنة (DOAJ)
—
النشاط (OpenAlex)
نشطة — آخر أعمال 2026
حالة الإدراج في قائمة PublishLens
تظهر بعد تسجيل الدخول
تُحتسب للترقية في جامعتك؟
اختر جامعتك ورتبتك أدناه ↓

إشارات المنهجية (وقائع مؤرَّخة من مصادرها)

تفاصيل التقييم وفق المنهجية المنشورة تُعرض للمسجّلين مجاناً.

أنشئ حساباً مجانياً لعرض التقييم

ملف المجلة الوصفي

بيانات وصفية من مصادر علنية (DOAJ، OpenAlex، PubMed) بتاريخ الالتقاط المبيَّن — لا تتضمن أي تقييم أو حكم.

عدد الأعمال في OpenAlex

39570

آخر سنة نشر مسجلة

2026

تُعلنها OpenAlex في 1 من 3 مصادر (أعلام CC0، لا فهرسة مُتحقَّقة)DOAJSciELOOpenAlex Core

معامل h

268

معامل i10

24282

من بيانات OpenAlex المفتوحة (CC0).

السياسة التحريرية4
الحفظ الرقمي المرصود (سجل Keepers)— لقطة 2026-09-21
CLOCKSSPortico
السجل النرويجي (HK-dir)— 2026
المستوى 1 — قناة علمية معتمدة
مراجع مودعة علنياً في Crossref
91%
معرّفات ORCID في الإيداعات الحديثة
88%
تُودِع بيانات الرخص في Crossref
✓
الهوية والاستمرارية1
نوع المصدر
journal
التصنيف الموضوعي(لا بيانات)

لا بيانات لدى المنصة لهذه المجموعة

لا بيانات لدى المنصة في: التصنيف الموضوعي.

المواضيع العلمية

  • Advanced Chemical Physics Studies
  • Advanced Chemical Physics Studies
  • Surface and Thin Film Phenomena
  • Surface and Thin Film Phenomena
  • Electron and X-Ray Spectroscopy Techniques
  • Electron and X-Ray Spectroscopy Techniques
  • Catalytic Processes in Materials Science
  • Catalytic Processes in Materials Science
عرض كل المجالات (50)
  • nanoparticles nucleation surface interactions
  • nanoparticles nucleation surface interactions
  • Semiconductor materials and devices
  • Semiconductor materials and devices
  • Molecular Junctions and Nanostructures
  • Molecular Junctions and Nanostructures
  • Ion-surface interactions and analysis
  • Ion-surface interactions and analysis
  • Advanced Materials Characterization Techniques
  • Advanced Materials Characterization Techniques
  • Semiconductor Quantum Structures and Devices
  • Semiconductor Quantum Structures and Devices
  • Quantum and electron transport phenomena
  • Quantum and electron transport phenomena
  • Electronic and Structural Properties of Oxides
  • Electronic and Structural Properties of Oxides
  • Semiconductor materials and interfaces
  • Semiconductor materials and interfaces
  • Spectroscopy and Quantum Chemical Studies
  • Spectroscopy and Quantum Chemical Studies
  • Catalysis and Oxidation Reactions
  • Catalysis and Oxidation Reactions
  • Force Microscopy Techniques and Applications
  • Force Microscopy Techniques and Applications
  • Quantum, superfluid, helium dynamics
  • Quantum, superfluid, helium dynamics
  • Magnetic properties of thin films
  • Magnetic properties of thin films
  • Theoretical and Computational Physics
  • Theoretical and Computational Physics
  • Graphene research and applications
  • Graphene research and applications
  • Physics of Superconductivity and Magnetism
  • Physics of Superconductivity and Magnetism
  • Surface Chemistry and Catalysis
  • Surface Chemistry and Catalysis
  • Chemical and Physical Properties of Materials
  • Chemical and Physical Properties of Materials
  • Metal and Thin Film Mechanics
  • ZnO doping and properties
  • ZnO doping and properties
  • Metal and Thin Film Mechanics

تأكيدات مجتمعية — ما رآه مستخدمون في MJL أو Scopus Sources؛ ليست تحققاً من المنصة ولا تدخل في أي درجة.

جارٍ تحميل التأكيدات المجتمعية…
كيف نُقيّم؟ناشر هذه المجلة؟ تظلّم على تقدير مشتق أو طلب تصحيح واقعة

سجل المجلة في مصادر أخرى:Web of Science MJLDOAJ

كل ما يُعرض هنا يُنتَج آلياً من مصادر مسمّاة (DOAJ، OpenAlex، Crossref، PubMed، السجل النرويجي) بتاريخ التقاطه، دون تحرير بشري. الوقائع تظهر كما سُجِّلت في مصدرها؛ والدرجات المشتقة (PCI، PTD، درجة PublishLens) تتبع منهجية منشورة. ليست حكماً على المجلة ولا اعتماداً رسمياً ولا استشارة.

أي بند خاطئ يُصحَّح آلياً بإعادة قراءة مصدره (خلال 24 ساعة للمصادر اليومية و7 أيام للأسبوعية) مع سجل تغييرات مؤرَّخ، وكل بند يرتبط بسجله في المصدر. الاعتراض على تقدير مشتق من PublishLens يمر عبر آلية التظلم (15 يوم عمل). آلية التظلم · دليل المؤشرات

بيانات السجل النرويجي: Kanalregisteret (HK-dir، النرويج) — رخصة CC BY 4.0 / NLOD — مُعالَجة: استخراج المستوى بالسنة · قائمة أعضاء OASPA — رخصة CC BY

آخر قراءة آلية للمصدر: