Gongneng cailiao yu qijian xuebao

Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology

موقع المجلة الرسميطريقة التحكيم: تحكيم علمي
حالة التقييم متاحة بعد تسجيل الدخول

عن المجلة

Gongneng cailiao yu qijian xuebao مجلة مفتوحة الوصول يصدرها Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology في الصين وتنشر بـCHINESE. مُدرجة في DOAJ بحسب المصادر المقروءة. مدة التحكيم المعلنة لدى DOAJ: 18 أسبوعاً. الوقائع منقولة كما وردت في مصادرها بتاريخ التقاطها؛ مؤشرات PublishLens متاحة بعد تسجيل الدخول.

الوقائع الأساسية

الناشر
Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology
ISSN
1007-4252
البلد
الصين
اللغات
CHINESE
الوصول
وصول مفتوح
عدد المقالات في DOAJ
103
مدة التحكيم المعلنة
18 أسبوعاً
نمط التحكيم المعلن
peer_review
الموقع الرسمي
https://www.jfmd.net.cn/indexen.htm

الإدراج في الفهارس

  • DOAJ · 2026-01-06
الفهرسة
DOAJ
رسوم النشر
—
مدة التحكيم المُعلَنة (DOAJ)
18 أسبوعاً — مُعلَن من المجلة فقط (غير مقاس)
النشاط (OpenAlex)
نشطة — آخر أعمال 2026
حالة الإدراج في قائمة PublishLens
تظهر بعد تسجيل الدخول
تُحتسب للترقية في جامعتك؟
اختر جامعتك ورتبتك أدناه ↓

إشارات المنهجية (وقائع مؤرَّخة من مصادرها)

تفاصيل التقييم وفق المنهجية المنشورة تُعرض للمسجّلين مجاناً.

أنشئ حساباً مجانياً لعرض التقييم

ملف المجلة الوصفي

بيانات وصفية من مصادر علنية (DOAJ، OpenAlex، PubMed) بتاريخ الالتقاط المبيَّن — لا تتضمن أي تقييم أو حكم.

عدد المقالات في DOAJ

103

أحدث مقال منشور

الشهر الماضي

متوسط مدة المراجعة (مُعلَن من المجلة عبر DOAJ)

18أسبوعاً

عدد الأعمال في OpenAlex

1378

آخر سنة نشر مسجلة

2019

تُعلنها OpenAlex في 1 من 3 مصادر (أعلام CC0، لا فهرسة مُتحقَّقة)DOAJSciELOOpenAlex Core

معامل h

6

معامل i10

0

من بيانات OpenAlex المفتوحة (CC0).

السياسة التحريرية9
تاريخ آخر مراجعة لدى DOAJ
2026-01-06
تاريخ الإضافة إلى DOAJ
2026-01-06
فحص الاستلال المُعلَن
غير مُعلَن
رسوم أخرى غير رسوم النشر
لا
هيئة التحرير
الصفحة الرسمية ↗
مراجع مودعة علنياً في Crossref
100%
معرّفات ORCID في الإيداعات الحديثة
0%
مسجَّلة في فحص التشابه (Crossref Similarity Check)
✓
سياسة التحكيم
عرض السياسة
الهوية والاستمرارية1
نوع المصدر
journal
التصنيف الموضوعي2

الموضوعات (DOAJ)

Technology: Electrical engineering. Electronics. Nuclear engineering: Materials of engineering and construction. Mechanics of materials

رموز تصنيف مكتبة الكونغرس

TA401-492

المواضيع العلمية

  • Gas Sensing Nanomaterials and Sensors
  • Gas Sensing Nanomaterials and Sensors
  • Linguistic, Cultural, and Literary Studies
  • Legal and Regulatory Analysis
  • Legal and Regulatory Analysis
  • Military Technology and Strategies
  • Linguistic, Cultural, and Literary Studies
  • Military Technology and Strategies
عرض كل المجالات (50)
  • Semiconductor materials and devices
  • Semiconductor materials and devices
  • Advanced MEMS and NEMS Technologies
  • Advanced MEMS and NEMS Technologies
  • GaN-based semiconductor devices and materials
  • GaN-based semiconductor devices and materials
  • ZnO doping and properties
  • ZnO doping and properties
  • Acoustic Wave Resonator Technologies
  • Acoustic Wave Resonator Technologies
  • Magnetic Properties and Applications
  • Magnetic Properties and Applications
  • Analytical Chemistry and Sensors
  • Semiconductor Quantum Structures and Devices
  • Analytical Chemistry and Sensors
  • Semiconductor Quantum Structures and Devices
  • Metal and Thin Film Mechanics
  • Metal and Thin Film Mechanics
  • Semiconductor Lasers and Optical Devices
  • Diamond and Carbon-based Materials Research
  • Semiconductor Lasers and Optical Devices
  • Diamond and Carbon-based Materials Research
  • Silicon Nanostructures and Photoluminescence
  • Silicon Nanostructures and Photoluminescence
  • Thin-Film Transistor Technologies
  • Thin-Film Transistor Technologies
  • Photonic and Optical Devices
  • Photonic and Optical Devices
  • Ferroelectric and Piezoelectric Materials
  • Ferroelectric and Piezoelectric Materials
  • Advancements in Semiconductor Devices and Circuit Design
  • Advanced Sensor and Control Systems
  • Advanced Sensor and Control Systems
  • Advancements in Semiconductor Devices and Circuit Design
  • Conducting polymers and applications
  • Conducting polymers and applications
  • Advanced Surface Polishing Techniques
  • Magnetic properties of thin films
  • Magnetic properties of thin films
  • Advanced Surface Polishing Techniques
  • Silicon and Solar Cell Technologies
  • Silicon and Solar Cell Technologies

كلمات مفتاحية (DOAJ)

  • semiconductors
  • microelectronics
  • integrated circuits
  • materials science
  • devices

تأكيدات مجتمعية — ما رآه مستخدمون في MJL أو Scopus Sources؛ ليست تحققاً من المنصة ولا تدخل في أي درجة.

جارٍ تحميل التأكيدات المجتمعية…
كيف نُقيّم؟ناشر هذه المجلة؟ تظلّم على تقدير مشتق أو طلب تصحيح واقعة

سجل المجلة في مصادر أخرى:Web of Science MJLDOAJ

كل ما يُعرض هنا يُنتَج آلياً من مصادر مسمّاة (DOAJ، OpenAlex، Crossref، PubMed، السجل النرويجي) بتاريخ التقاطه، دون تحرير بشري. الوقائع تظهر كما سُجِّلت في مصدرها؛ والدرجات المشتقة (PCI، PTD، درجة PublishLens) تتبع منهجية منشورة. ليست حكماً على المجلة ولا اعتماداً رسمياً ولا استشارة.

أي بند خاطئ يُصحَّح آلياً بإعادة قراءة مصدره (خلال 24 ساعة للمصادر اليومية و7 أيام للأسبوعية) مع سجل تغييرات مؤرَّخ، وكل بند يرتبط بسجله في المصدر. الاعتراض على تقدير مشتق من PublishLens يمر عبر آلية التظلم (15 يوم عمل). آلية التظلم · دليل المؤشرات

بيانات السجل النرويجي: Kanalregisteret (HK-dir، النرويج) — رخصة CC BY 4.0 / NLOD — مُعالَجة: استخراج المستوى بالسنة · قائمة أعضاء OASPA — رخصة CC BY

آخر قراءة آلية للمصدر: